半导体超纯水设备生产高质量超纯水，成为行业制胜法宝

　　在集成电路、分立器件和其他半导体产品中，半导体材料是半导体产业链上游环节的重要组成部分，起着关键作用。在半导体相关基础设施建设周期长、技术要求高的情况下，企业必须制定一套长远的策略，以建立良好的设计和制造能力。某些细分领域的公司竞相开发新工艺，逐鹿半导体行业市场。要推动数字化革命，就必须有更强大的计算和存储能力，换句话说，就是芯片的制造，而芯片制造的基础就是采用更高的水质，超纯水已成为企业竞争的制胜法宝。

　　半导体工业对清洁水的电导率、离子含量、TOC和颗粒物的要求越来越严格。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因此半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同。半导体行业对超纯水有极其严格的水质要求。

　　半导体工业是超纯水应用的主要产业之一。在半导体加工过程中，对水质要求很高，不含任何离子杂质。半导体超纯水设备可以有效去除水中杂质，保证设备出水水质。莱特莱德采用双反+EDI+Huncotte系统组合工艺，出水可达18.2mΩ·cm。

　　反渗透系统采用反渗透原理，主要去除溶解盐、有机物、胶体、高分子等，降低水质离子含量。EDI是结合离子交换膜技术和离子电迁移技术的纯水制造技术。它不需要酸碱再生，是一种新的脱盐方法。EDI无需回收化学品，运行成本低，EDI超纯水系统自动化程度高，可实现连续运行，出水水质良好稳定，出水电阻率高≥ 15mΩ·cm。Huncotte系统用于高纯水处理系统的末端净化器。可将水中离子含量降至ppb级，出水电阻率可达18.2mΩ·cm，为半导体带来更好的性能优势。

　　莱特莱德经过多年实践，同时结合膜分离技术，采用了反渗透和离子交换系统(或EDI)相结合的方法制备超纯水，与传统方法相比，具有运行费用低(离子交换器的再生周期大大延长)，运行可靠。莱特莱德超纯水设备出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2，高于中国国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准。从研发设计、设备制造，到工程施工、运营维护，莱特莱德都秉承"科学创新，以人为本，客户至上"的经营服务理念，为客户提供高质量水处理设备。